Molecular Imprints erhält Auftrag über mehrere moderne Litographiegeräte für großvolumige Halbleiterherstellung
Austin, Texas (ots/PRNewswire) — Jet and Flash? Imprint Lithography (J-FIL?) von Molecular Imprints auf dem richtigen Weg für Produktion von Halbleiterspeichern ab 2014 AUSTIN, Texas, 24. September 24, 2012 /PRNewswire/ – Molecular Imprints, Inc. (MII), Markt- und Technologieführer für Nanostrukturierungs [http://www.molecularimprints.com/]systeme und -lösungen gab heute den Erhalt eines Auftrags über mehrere Imprint-Module [http://www.molecularimprints.com/] zur Integration in die Steppersysteme eines Herstellers für Halbleiteranlagen bekannt. Diese Module umfassen die neueste proprietäre Jet and Flash? Imprint Lithography [http://www.molecularimprints.com/] (J-FIL?) Technologie von MII mit der erforderlichen Leistung für die großvolumige Herstellung moderner Halbleiterspeichergeräte. (Logo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO [http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO] ) ?Dieser Auftrag über mehrere Module ist ein Vertrauensbeweis unserer Kunden hinsichtlich der baldigen Produktionsreife von J-FIL“, so Mark Melliar-Smith, Vorsitzender und CEO von Molecular Imprints. ?Unsere Anlagen- und Handelspartner sowie internen Teams konnten ihre Entwicklungsaktivitäten erfolgreich koordinieren und im letzten Jahr enorme Fortschritte erzielen, insbesondere in den Bereichen Mängelbehebung und Gesamtbetriebskosten [http://www.molecularimprints.com/] (CoO). Wir freuen uns jetzt auf die nächste Phase der Kommerzialisierung unserer J-FIL-Technologie und auf die Entwicklung eines Strategieplans für Halbleiterspeichergeräte in den nächsten Jahren.“ Die J-FIL?-Technologie weist eine 24-nm-Strukturierung mit herausragender Kantenrauigkeit (
Orginal-Meldung: http://www.presseportal.de/pm/103433/2331587/molecular-imprints-erhaelt-auftrag-ueber-mehrere-moderne-litographiegeraete-fuer-grossvolumige/api
